公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585951專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:記憶體結構2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/06/013.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 54,6004.其他應敘明事項:一種記憶體結構，包括基底、選擇閘極結構、第一重摻雜區、第二重摻雜區及浮置接觸窗。選擇閘極結構設置於基底上。第一重摻雜區與第二重摻雜區分別設置於選擇閘極結構一側與另一側的基底中。浮置接觸窗設置於第一重摻雜區與選擇閘極結構之間的基底上，且與基底相互隔離。