龍翩真空科技與BENEQ攜手探索先进ALD光學鍍膜技術

龍翩真空科技與芬蘭BENEQ攜手舉辦ALD光學鍍膜研討會，共探台灣光學市場發展

近日，台灣真空鍍膜設備大廠龍翩真空科技與芬蘭BENEQ公司攜手，於4月20日成功舉辦了「ALD光學鍍膜研討會」。會議吸引了台灣各大光學廠商的熱烈參與，共同探討國際間前瞻性產品應用與高端製程技術的開發進展，旨在拓展ALD技術與量產設備在台灣光學市場的應用，開拓更多的合作機會。

BENEQ自1984年開始使用原子層沉積（ALD）技術進行工業生產，目前已經成為全球領先的ALD設備生產商。公司提供各種技術產品和研發服務，並將ALD技術應用於各項研究中，推動技術發展的大趨勢。

原子層沉積技術具有大面積、高階梯覆蓋率、高厚度均勻性、低溫製程及原子級膜厚控制等優點，在半導體、光電領域和生醫材料等領域具有廣泛的應用潛力。BENEQ ADL半導體業務處長謝祖德表示，ALD技術受到廣泛關注，主要得益於積體電路工業奈米製程的發展，以及各產業及領域對元件微型化的需求。

龍翩真空科技董事長楊吉祥表示，公司自1991年成立以來，一直積極於真空鍍膜機的開發與製造，提供完整的「Turn-key」服務。龍翩真空在光學產業界深耕多年，與業界共同先鋒，提供更新技術與相關製程，發揮產業鏈重要環節的作用。

目前，龍翩真空的營運主軸包括真空蒸鍍/濺鍍設備製造、薄膜製程技術服務、藍芽溫度監控裝置、真空配件、成膜輔耗材銷售以及Olympus光學檢測儀器的總代理。2月14日西洋情人節，龍翩真空與BENEQ結為關係伙伴，將在原有基礎上提供ALD設備服務及銷售。

BENEQ和龍翩真空將合作開發和積極推廣ALD原子層沉積鍍膜技術，應用於台灣光學市場的高端曲率鏡片。ALD技術能為最具挑戰性的結構提供均勻的批覆薄形鍍膜層，適合高端光學應用。龍翩真空將為產業未來發展及應用全力以赴。