晶研開發電漿蝕刻技術成果斐然

晶研科技是以半導體製程技術在國內開創一片天地的，開發主要電漿蝕刻技術成果斐然，可應用在高亮度DEL、雷射FR-IC等高頻通訊，即以發展高密度電漿蝕刻技術，應用在最先進的高亮度LED上。該公司創辦人鄭光凱博士指示，良好的設備製造者也必具備充實製程技術，使晶研科技在短期間內，也以該主要技術十套侵蝕製程技術及市場。　新市場的開發能力總是企業界必爭力取的區域，所以各介業界無非不用其力的改革創新；因此晶研科技也積極在高密度電漿蝕刻技術設備而有求其發展突破，並在LED乃至於雷射、高頻通訊領域應用中，已達世界水準之上，相信在不久的未來，將有更多的發展成果陸續推出。(2/11 編整．鄭江鐘)