半導體材料分析新品項 上市 |汎銓科技

兩年前，當汎銓研發材料分析專用的ALD原子層沉積技術時，令市場驚艷不已，此技術能在晶片樣品上形成保護的「盔甲」，避免人為缺陷。由於能呈現真實的材料微結構與成分，在FA╱MA分析上展現絕對優勢，大量獲得使用。

放眼市場，專用於材料分析樣品製備的ALD原子層沉積技術，至今仍是領先全球，使得汎銓與客戶維持緊密的黏著度。董事長柳紀綸認為，汎銓除了擁有獨步業界的完整分析工法，由公司研發團隊自力完成ALD設備研發及製備樣品技術，更具有非凡意義。

許多半導體大廠積極投入製程技術與設備開發，提升自主性，更能切合自身的需求，也可避免機密外洩的風險。談到汎銓為何自行開發設備？柳紀綸說，「汎銓在先進製程的材料分析走在業界前端，設備廠跟不上，關鍵性的材料分析設備只好自行研發。」

過去一年多，汎銓為服務客戶，長期犧牲「ALD產能成本」，近期針對市場供需情況將有所調整，同時推出ALD相關的材料分析新品項。汎銓強調，過去全部案件皆委案汎銓的忠誠客戶不受影響，仍能以舊品項價格，享有ALD樣品製備技術服務；反之，若是非長期合作、遊走各分析公司的客戶，分析服務將適用於新品項報價。