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2011年09月07日
星期三

阿托科技 扮無電鍍製程領頭羊 |阿托科技

無電鍍技術將在晶片堆疊過程中扮演重要的一環,阿托科技近年陸續開發鎳鈀及鎳鈀金等無電鍍製程,搭配SEMITOOL單晶片製程設備(Single Wafer Tool),提升微細線路的製程能力。

經封裝廠實測及認證,適用於晶片堆疊封裝使用,已積極與客戶端協調量產事宜。

阿托科技董事總經理黃盛郎表示,因應無鉛製程,未來將使用何種表面處理方式來使得晶片堆疊技術更臻完美,目前尚未有定論,究竟是由錫、鎳、金或鈀金出線,還需要更多的可靠度相關資料來確認。

ATOTECH的化學錫在半導體的應用已研發成功,並與精材科技合作,在無電鍍鎳等製進行長期合作。

阿托科技為HDI量產技術領先者,以精密化學藥品及相關設備,成功在HDI、觸板面板佈線、LED背光模組導光板等領域滲透,並對太陽能產業展現企圖心。

領先業界推出的第一套設備製程系統Multiplate,是針對晶圓雙面及填孔電鍍而研發,能同時在晶圓雙面進行填孔,並搭配專利製程技術來降低電鍍厚度(Over burden),實現晶圓薄化,節省化學機械研磨的時間及成本,適用於3D IC封裝的Interposer產品。

Multiplate除了是發展半導體先進製程的重要設備,在LED散熱基板製程也有成功案例。黃盛郎表示,阿托科技的技術也受到觸板面板及矽基太陽能基板電鍍業高度倚重,展開合作。

觸板面板的佈線方面技術有多種,阿托主推銅沈積溼式佈線技術(CMD),比乾式濺鍍法具有成本優勢,配合網印,國內已有大型面板廠表示高度興趣。

他表示,CMD與濺鍍均適用於玻璃及塑膠面板,各有其優缺點,濺鍍的機台成本較高,但生產速度快,且無需廢水處理,國內部份觸控面板廠採用濺鍍法,是著眼於市場需求大且變化快速,急於卡位搶訂單。

針對矽基太陽能基板的電鍍,ATOTECH也研發對應的技術及設備,目的在於取代PECVD,提供業者更低成本的方案。

切入的時間雖較慢,但太陽能上半年市場冷清,價跌導致業者虧損連連,未來業者在投資時勢必更加重視設備的購置成本,才能在太陽能發電成本進入與市電同價的競爭中勝出。

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