瑞晶明年資本支出縮水至40億元

台日合資的DRAM大廠瑞晶宣布2011年資本支出僅新台幣40億元，相較於2010年的資本支出大幅縮水近70%，瑞晶指出，2011年暫訂轉進旗下4萬片產能到30奈米製程，再觀察景氣和報價狀況決定是否追加；此外，瑞晶也將在12月底前將旗下8萬片12吋晶圓產能都轉進45奈米製程，預計2Gb晶片到2011年2月起可大量產出，持續將成本壓低至1.5~1.6美元，力抗DDR3報價下跌。

瑞晶13日召開董事會，一併通過2010年資本支出的追加案，和2011年的資本支出預算，以及與爾必達(Elpida)簽訂45奈米技術合約；其中在 2010年資本支出方面，原本瑞晶規劃的資本支出為新台幣120億元，追加至128億元，主要花費都集中在轉進45奈米製程的研發和機器設備採購上。

瑞晶預計2011年的資本支出為新台幣40億元，相較於2010年新台幣128億元的費用，縮水將近70%，其中的30億元資本支出是用在將旗下12吋晶圓廠中的4萬片產能轉進30奈米製程，另外是研發費用約佔9億元，剩下為其他支出。

瑞晶2011年資本支出大幅縮水，主要是因為轉進45／30奈米製程需要的浸潤式微米曝光機台(Immersion Scanner)的採購都在2010年完成，目前手上已有5台浸潤式微米曝光機台，會是台灣DRAM廠中最快轉進40奈米製程的業者。

瑞晶表示，2011年僅暫訂轉進4萬片產能到30奈米製程，主要是要視DRAM產業景氣和價格的走勢，才會決定是否擴大轉進數量，以利手上資金做最好的應用；再者，30奈米製程與45奈米製程相較，每片晶圓數量預計可再增加35%。

事實上，瑞晶45奈米製程進度大幅提前，預計2010年12月底之前即可100%轉進45奈米製程，目前瑞晶12吋晶圓廠產能約8萬片，12月上旬45奈米製程投片量已達6萬片，預計下旬可以8萬片100%投入。

值得注意的是，瑞晶12月100%投入8萬片45奈米製程，預計全產出時程會是2011年2月，屆時瑞晶2Gb晶片成本可由目前的1.8~2美元降低至1.5~1.6美元，不但可力抗報價跌勢，更可拉大獲利空間。

近期DDR3價格開始止穩，雖然2Gb DDR3低價有到1.8美元，但平均報價仍維持在2美元附近；不過12月上旬合約價仍是反映現貨價格，持續擴大下跌9~11%，也反應部分系統客戶不願意在年底盤點前備貨。

業者認為，DDR3報價經過數月的巨幅下跌，寄望能逐步開始止跌回穩，銜接2011年農曆過年前的補貨潮，屆時可緩和台系DRAM廠的營運和資金壓力。