未上市產業分析─光罩廠積極投入0.13及0.15微米光罩研發量產 |翔準先進光罩

鉅亨網記者王志煌／特稿 04/27 17:03

台積電(2330)、聯電(2303)兩大晶圓代工廠的製程

已跨入0.13微米世代，上游的光罩廠配合兩大廠的需求

，目前都積極投入0.15及0.13微米光罩的研發量產，其

中翔準先進光罩預計 6月量產0.13微米光罩，中華杜邦

光罩預計第 3季提供解決方案，唯一的上市業者台灣光

罩(2338)也已具備相關技術，但今年仍未明顯挹注公司

的營收。

翔準先進光罩繼去年10月引進一部高階雷射曝光機

台後，上月又斥資新台幣 4-5億元引進 1台 Toshiba的

電子束曝光機EBM3500，可提供 0.13微米高階光罩更完

整的解決方案。為了 EBM 3500 機台的順利進駐，日本

Toshiba 特別派遣10餘位工程技術人員協助翔準裝機，

預計完成裝機後 5月中可開始寫測試片，6 月底可開始

進行0.13微米光罩的量產，以及 0.1微米光罩的研發，

翔準先進光罩今年高階光罩的營收比重將水漲船高。

Toshiba 的EBM 3500電子束曝光機台在國內外已被

多家半導體大廠使用，包括台積電、Intel、IBM、韓國

三星及德國的Infineon，部份大廠甚至購買 2台以上，

翔準引進該高階機台主要是母公司Photronics認為有必

要提供客戶最好的服務，因此也購買 2部，第 1部配合

晶圓代工龍頭廠的需求率先在台灣使用，另 1部則提供

美國德州廠使用。

至於杜邦與聯電合資成立的中華杜邦光罩目前也積

極為主要客戶聯電做準備，在杜邦美國母公司及韓國廠

的技術支援下，該公司預計今年第 3季就可提供0.15及

0.13微米光罩的解決方案。中華杜邦光罩去年營收 60%

來自0.18微米光罩，其次是0.25微米光罩，0.35微米光

罩只佔一小部份。由於今年第 3季以後0.15、0.13微米

光罩的產量逐漸增加，公司預計0.18微米光罩的比重將

下降。

上市的台灣光罩雖然今年0.13及0.15微米光罩所佔

的營收比重仍不明顯，但公司在今年已積極開發 KrF光

源的相位變換光罩，及提供光學週邊修襯 (OPC)光罩在

0.13及0.15微米的量產服務，去年並已引進研發設備，

同時和國內外的半導體廠驗證技術的可能性。

為了配合半導體廠 8吋及12吋晶圓廠今年進入0.13

及0.15微米製程，台灣光罩除了在技術更精進之外，今

年度也將引進新開發的先進設備，以配合半導體廠技術

發展及量產所需，而今年度的股東會通過提高公司資本

額的主要用途就在於購買相關設備。