配合半導體製程技術往下走 翔準光罩仍將購置新機台 |翔準先進光罩

鉅亨網記者王志煌／新竹科學園區．3月20日 03/20 11:17

翔準先進光罩去年底引進的新曝光機台已開始為客

戶小量生產0.15微米光罩，0.13微米光罩也在測試階段

中，由於台積電等半導體廠客戶已陸續走向0.13微米製

程技術，翔準先進配合客戶需求，最近兩個月仍將引進

新的曝光機台。

翔準先進光罩目前已具備0.15微米光罩的生產技術

，並已為客戶做小量試產，0.13微米部份，目前仍在測

試階段，預計今年中就有驗證的動作，年底可望為客戶

進行量產。

翔準目前共有 5部曝光機台，其中一部是去年底才

引進，主要生產0.15及0.13微先進光罩。由於半導體製

程技術持續往下走到0.13微米，翔準光罩配合客戶需求

，預計在最近兩個月內仍將購置一部先進的曝光機台。