汎銓科技：專注EUV光阻領域，全球唯一低損傷技術提供商|汎銓科技

【新聞報導】 汎銓科技（MSS）這間台灣半導體材料分析專家，在先進製程領域展現了驚人的技術實力。他們的技術能力可以應對7奈米以下的製程，這在當今的半導體產業中可是相當尖端的水平呢！ 上個月的SEMICON CHINA展會上，汎銓科技在Hall N5的攤位（5759號）吸引了許多業內人士前來交流，可見他們的影響力和專業度。 说到先進製程，不得不提的就是EUV微影技術，這是5奈米及3奈米製程發展的關鍵。但這技術的難度可不小，因為在曝光光阻時會產生很多物理性和化學性的變化，這些變化很容易導致缺陷。 汎銓科技卻有辦法透過TEM（傳統電子顯微鏡）進行形貌及成分分析，並且他們的樣品製備技術非常出色，能夠保持樣品原貌不變形，從而找出缺陷的真因。 更令人驚艷的是，汎銓科技開發了全球獨步的低損傷EUV光阻材料分析技術，這項技術能夠提供非常精準的數據，幫助客戶在先進製程研發競賽中保持領先。 不僅如此，汎銓科技在台灣新竹總部設有完善的實驗室，並且在南京浦口經濟開發區設立了子公司——南京泛銓電子科技，提供全面的半導體先進製程分析服務，服務對象涵蓋了大陸的晶片產業、積體電路、LED及光通訊產業。 自2005年7月成立以來，汎銓科技就在專業領域中領先群倫，南京廠區更是成為了他在大陸的營運總部。他們強調，大陸急需高端材料分析廠商，而汎銓科技提供的先進技術服務，正是為了大陸重點產業建立優質研發能量的有力後盾，同時也能夠培養更多優秀人才，幫助晶片廠縮短先進製程的時間。