汎銓科技：領先半導體材料分析新產品啟航|汎銓科技

兩年前，我們台灣的汎銓科技在研發材料分析領域，推出了一項震撼市場的ALD原子層沉積技術。這項技術就像給晶片穿上了一層堅固的「盔甲」，能有效防止人為的缺陷產生。由於它能呈現出真實的材料微結構與成分，所以在FA/MA分析上具有絕對優勢，受到廣泛的欢迎和使用。 在這個領域，汎銓科技的ALD原子層沉積技術是全球領先的，這也使得汎銓與客戶之間保持了非常緊密的合作關係。公司的董事長柳紀綸表示，汎銓擁有完整的分析工法，並且由自己的研發團隊自主完成ALD設備的研發和樣品製備技術，這對公司來說具有非凡的意義。 隨著半導體大廠們積極投入製程技術和設備開發，提升自主性，並切合自身的需求，同時避免機密外洩的風險，汎銓科技為何也選擇了自行開發設備呢？柳紀綸解釋說，「因為汎銓在先進製程的材料分析上一直走在業界的前端，設備廠商跟不上我們的步伐，所以關鍵性的材料分析設備只能自己研發。」 過去一年多，汎銓科技為了更好地服務客戶，長期犧牲了「ALD產能成本」。近期，公司將根據市場供需情況進行調整，並推出ALD相關的新材料分析產品。汎銓強調，過去所有與汎銓保持長期合作的忠誠客戶將不受影響，仍能以舊品項的價格，享受ALD樣品製備技術服務。對於那些非長期合作、遊走於各分析公司之間的客戶，分析服務將適用於新品項的報價。