聯電：不評論 全案會上訴

美國舊金山聯邦地方法院法官24日發出逮捕令，通緝美光營業秘密案三名涉嫌人包括福建晉華集成電路前總經理陳正坤，以及美光跳槽聯電的工程師、何建廷和王永銘，但陳正坤與何建廷早已離開，目前僅王永銘還在聯電工作。聯電昨日表示，不便幫離職的人評論，相關案子仍會上訴。美國舊金山法院逮捕令針對的三人陳正坤、何建廷和王永銘，三人都被控竊取美光技術轉移給福建晉華。現在業界人士僅知道王永銘還在聯電，陳正坤和何建廷去向不明。何建廷、王永銘原先在台灣美光任職，離職時帶走機密文件至聯電任職，與戎樂天成功研發DRAM 製程。台中地檢署2017年依違反《營業秘密法》起訴聯電公司、戎樂天、何建廷、王永銘，2018年美國司法部也依經濟間諜等罪，起訴聯電、晉華、何建廷、王永銘，及曾任台灣美光總經理、聯電副總的晉華總經理陳正坤。