福葆電子取得中華民國"微細間距金凸塊製程及其封裝體"發明第I222198號 2004/10/22 來源:資訊觀測站 1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:微細間距金凸塊製程及其封裝體2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:93/10/113.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:不適用4.其他應敘明事項:專利權期間自2004/10/11至2023/09/03止 上一則: 福葆電子取得中華民國"微細間距金凸塊製程之濺鍍金層濕式蝕刻方法"發明第202892號 下一則: 福葆電子初次上櫃公司93年09月財務預測達成情形