MA＋FA＋SA 汎銓服務全方位

柳紀綸表示，汎銓的策略很清楚「研發無邊界、設備投資無上限」。除TEM穿透式電子顯微鏡、FIB聚焦離子束設備、SEM掃描式電子顯微鏡、nano prober及SIMS先進二次離子質譜儀等先進設備，Thermal、SAT、X-ray及PFIB等先進封裝分析設備也全數到位。有了ALD的加持，更是如虎添翼。

汎銓的材料分析（MA）服務廣受半導體業界肯定，分析能量充沛且全方位，從28奈米一直發展到5奈米以下，全面掌握成熟的技術，滿足客戶在高質量材料分析（MA）、故障分析（FA）及表面分析（SA）的需求。汎銓近年也積極擴展據點，各地陸續成立營業服務站。今年開始強化FA業務，以營運總部為中心，全面展開。

法人分析，半導體大廠積極投入高階製程研發，已邁入3及2奈米製程，未來台積電朝向1奈米製程技術推進並非不可能。汎銓由於參與客戶初始的研發，成為3及2奈米先進的製程先鋒，柳紀綸認為，只有跑在客戶前面，才能贏得合作的機會。汎銓的分析能力，甚至超前設備商的需求。

汎銓往來的客戶超過400家，其中200家長期密切合作，每周每月都固定委託案件，單月協助客戶的研發案件近萬件。15年來持續發展半導體先進MA、FA及SA技術，汎銓不僅是低調的隱形冠軍，也具備領航先進製程研發的實力。