ALD設備及樣品製備工法 提升分析精準度

ALD真空鍍膜技術對於半導體材料分析的重要性，業界形容，等同於EUV極紫外光對於晶圓廠，不可或缺。

汎銓科技在半導體材料分析（MA），技術領先業界，多年前開發、近期正式取得專利的ALD低溫真空鍍膜技術，可在樣品外形成保護層，避免樣品在電子束照射下產生變形，提升材料分析的精準度，也進一步確立在業界的領先地位。

董事長柳紀綸表示，ALD真空鍍膜技術在市場行之有年，晶圓廠使用大型ALD設備，為高溫製程，而汎銓研發小型ALD設備及樣品製備工法，用於分析實驗室，為接近常溫的低溫設計，產出速度快，是兩者最大的不同。

不是設備製造廠，卻憑著對半導體製程的了解，自力開發材料分析的ALD專用設備及樣品製備工法，汎銓再度證明沒有不可能的事，令外界刮目相看，也再次拉開領先對手的距離。

ALD低溫真空鍍膜設備對汎銓而言，是經過千錘百?的倚天劍、屠龍刀，柳紀綸表示，「這套設備自用、不外賣」。應用於此設備的樣品製備工法也是汎銓獨門利器，未說出口的是，汎銓經驗豐富的研發團隊，是讓設備淋盡致發揮功能的關鍵。