翔準先進高階光罩今年將佔公司半數以上營收比例

鉅亨網記者王志煌／新竹科學園區． 4月 6日 04/06 15:44

因應半導體製程走向0.15及0.13微米先進製程，翔

準先進光罩去年10月引進一部高階雷射曝光機台後，上

週又引進 1台Toshiba的電子束曝光機EBM3500，除了可

提供客戶更完整的服務，高階光罩今年佔翔準的營收比

例也將提高至半數以上。

翔準先進總經理陳于津表示，翔準自建廠以來，就

一直以在台灣建立最先進光罩為其經營目標，所以在機

台的購置、團隊人員的組成及訓練方面均不遺餘力，因

此在短短的幾年中已達到能製造高檔光罩的能力。

陳于津指出，為了配合台灣及亞洲地區高檔光罩的

需求，翔準在美國的母公司Photronics也在研發的資源

上提供了很大的助力，讓翔準在各種機台評估上有充足

的人力及資源的協助，並在與廠商議價時翔準也能得到

相當優厚的條件。除此之外，Photronics在美國的新製

程、新材料的研發，也全力提供翔準在技術上的協助，

翔準將運用此最大優勢提供台灣IC產業最佳的服務。

陳于津表示，去年0.25微米以下高階光罩約佔公司

40-50%的營收比重，今年因新機台引進及 6月底開始量

產0.13微米光罩，預計高階光罩所佔營收比重仍將再次

提高。

翔準先進去年營收10億元，本業已達到損益兩平，

今年在0.18微米光罩產量提高及0.15、0.13微米光罩陸

續量產的帶動下，公司預估全年營收仍有 50%以上的成

長，以28.5億元股本計算，每股盈餘在 1元以上。