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| 股票名稱 | 報價日期 | 今買均 | 買高 | 昨買均 | 實收資本額 |
|---|---|---|---|---|---|
| 晶研科技 | 2025/06/14 | 議價 | 議價 | 議價 | - |
| 統一編號 | 董事長 | 今賣均 | 賣低 | 昨賣均 | 詳細報價連結 |
| 議價 | 議價 | 議價 | 詳細報價連結 |
2000年10月09日
星期一
星期一
砷化鎵蝕刻設備 晶研 技術領先 |晶研科技
晶研科技成立於民國八十七年，主要產品為半導體、微機電、光電及高頻通訊產業之薄膜製程設備，其中包含 CVD、RIE、高密度電漿蝕刻及薄膜沉積設備，多腔式連續製程設備(cluster-tool)高密度電漿中所需的最先進 RF 功率生產系統，調諧系統以及相關之應用技術支援及訓練。
公司積極研發新一代的砷化鎵蝕刻設備已達成熟，並已獲得國內大廠量產型機台訂單。隨著該等級設備研發成功，國內的 III-V 族半導體元件的量產型蝕刻設備將可不需倚賴進口，將大幅提升台灣產業研發能力及國際競爭力。
(工商時報 35版)
公司積極研發新一代的砷化鎵蝕刻設備已達成熟，並已獲得國內大廠量產型機台訂單。隨著該等級設備研發成功，國內的 III-V 族半導體元件的量產型蝕刻設備將可不需倚賴進口，將大幅提升台灣產業研發能力及國際競爭力。
(工商時報 35版)
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