汎銓科技：ALD技術導向，精準提升分析效能

【科技新聞】 在半導體產業，ALD真空鍍膜技術的關鍵性不僅於EUV極紫外光對晶圓廠的重要性，更被業界喻為不可或缺的利器。台灣汎銓科技在這一領域展現了卓越的技術實力，其開發的ALD低溫真空鍍膜技術，不僅為業界帶來驚艷，更確立了公司在半導體材料分析（MA）領域的領先地位。 汎銓科技董事長柳紀綸強調，該技術已經市場驗證多年，而汎銓的獨特之處在於，其研發的小型ALD設備及樣品製備工法，採用接近常溫的低溫設計，與晶圓廠使用的大型ALD設備相比，產出速度更快，這是兩者間最大的差異。 汎銓科技並非設備製造廠，卻能憑借對半導體製程的深入理解，自力開發專用的ALD設備及樣品製備工法，這一成就讓外界刮目相看。柳紀綸表示，這套設備是汎銓的「倚天劍、屠龍刀」，並強調「這套設備自用、不外賣」。 此外，汎銓科技在樣品製備工法上的獨門技術，更是其競爭力的來源。該公司經驗豐富的研發團隊，是這套設備能夠發揮極致功能的關鍵。汎銓科技再次以實力證明，在半導體材料分析領域，沒有不可能的事。