光程研創打造尖端晶片，引领科技新里程碑|光程研創

光程研創創新技術寫下三個世界第一，開創光學成像新紀元！

近期，光程研創（Artilux）宣布，在全球光子技術領域中，成功打造了三項創新技術，不僅解決了傳統製程的種種限制，更寫下了三個世界第一的標竿。

首先，光程研創推出全球首創基於12吋CMOS製程結合矽鍺短波紅外線（SWIR）雙模（2D／3D）感知技術單晶片，這項技術在台積電的協助下已成功導入量產。這不僅是技術上的突破，更意味著光程研創在矽鍺（GeSi）光子技術領域的領先地位。

光程研創的這項技術具有三個世界第一的亮點：一是成功推出高解析GeSi像素技術，解決了傳統製程在窄波段應用和量子感光效率的問題；二是推出SWIR雙模感知單晶片，實現了2D和3D成像的同時呈現；三是實現了在台積電12吋晶圓廠量產，打破SWIR成像像素只能在6吋以下晶圓製造的枷鎖。

光程研創執行長陳書履表示，公司將持續以創新為核心，將最先進的光子技術商業化，與人類生活更緊密地結合。此次的成功，不僅是技術上的突破，更是光學成像領域的一個新里程碑。

未來，光程研創將繼續在光學感測等多元應用上發力，期望引領新一波SWIR產業生態圈的蓬勃發展，為行動裝置、智慧穿戴、智慧家電、環境偵測等領域帶來更多創新解決方案。