台灣微影半導體，技術創新引領先|微影半導體

台灣微影半導體近期宣布了一項重大突破，成功將LED光源與超高焦距深度投影鏡頭結合，推出業界罕見的「步進式微米級投影曝光機」。這款產品以其節能、環保及高性價比等優勢，讓微影半導體在掌握關鍵製程設備技術的台灣廠商中脫穎而出，並在全球設備高度集中且依賴進口的市場格局中，找到了一條突圍的契機。

微影半導體由董事長胡德立領軍，其核心技術雖然源自歐美，但經過團隊十餘年的整合與自主研發，已取得顯著的進展。為了強化研發與製造的一體化布局，微影在竹科設立了研發中心，並在台南建置了生產基地。值得一提的是，胡德立同時也是駿吉控股（1591）的董事長。

根據市場統計，全球半導體設備市場規模已達1,240億美元，預計到2030年將成長至1,779.7億美元，年複合增長率達7.5%。其中，步進式曝光設備市場規模預計從2021年的182億美元成長至2031年的450億美元，年增率為9.5%，亞太市場成為主要成長動能。

在新的商業模式推動下，微影半導體今年營收預計可達1億元至1.5億元，並計劃在明年第4季登錄興櫃。胡德立強調，韓國與大陸在官方資金與本土品牌的帶動下，已發展出曝光機、濺鍍機等核心製程設備，並躍升為全球前十大設備商。雖然台灣在全球晶圓代工領域取得關鍵位置，但核心設備多依賴進口，國產廠商難以切入製程核心。

為了突破這一困境，駿吉控股採取了「晶片導入設備」策略，透過自有DDR記憶體晶片外包，帶動封裝廠採用集團的晶圓切割、貼片、測試設備，形成一條龍供應鏈。未來，結合台廠的濺鍍機、蝕刻機與微影的曝光機，將構建自主設備聯盟，從製程、製造到封裝建立完整的地產業鏈，減少對歐美日設備商的依賴。

微影半導體還同步研發濺鍍機與蝕刻機，預計在駿吉啟動DDR5晶片製程後，曝光機業務將同步受益，進一步推升營收與獲利表現。