

微影半導體(未)公司新聞
台灣微影半導體近期宣布了一項重大突破,成功將LED光源與超高焦距深度投影鏡頭結合,推出業界罕見的「步進式微米級投影曝光機」。這款產品以其節能、環保及高性價比等優勢,讓微影半導體在掌握關鍵製程設備技術的台灣廠商中脫穎而出,並在全球設備高度集中且依賴進口的市場格局中,找到了一條突圍的契機。
微影半導體由董事長胡德立領軍,其核心技術雖然源自歐美,但經過團隊十餘年的整合與自主研發,已取得顯著的進展。為了強化研發與製造的一體化布局,微影在竹科設立了研發中心,並在台南建置了生產基地。值得一提的是,胡德立同時也是駿吉控股(1591)的董事長。
根據市場統計,全球半導體設備市場規模已達1,240億美元,預計到2030年將成長至1,779.7億美元,年複合增長率達7.5%。其中,步進式曝光設備市場規模預計從2021年的182億美元成長至2031年的450億美元,年增率為9.5%,亞太市場成為主要成長動能。
在新的商業模式推動下,微影半導體今年營收預計可達1億元至1.5億元,並計劃在明年第4季登錄興櫃。胡德立強調,韓國與大陸在官方資金與本土品牌的帶動下,已發展出曝光機、濺鍍機等核心製程設備,並躍升為全球前十大設備商。雖然台灣在全球晶圓代工領域取得關鍵位置,但核心設備多依賴進口,國產廠商難以切入製程核心。
為了突破這一困境,駿吉控股採取了「晶片導入設備」策略,透過自有DDR記憶體晶片外包,帶動封裝廠採用集團的晶圓切割、貼片、測試設備,形成一條龍供應鏈。未來,結合台廠的濺鍍機、蝕刻機與微影的曝光機,將構建自主設備聯盟,從製程、製造到封裝建立完整的地產業鏈,減少對歐美日設備商的依賴。
微影半導體還同步研發濺鍍機與蝕刻機,預計在駿吉啟動DDR5晶片製程後,曝光機業務將同步受益,進一步推升營收與獲利表現。
微影由董事長胡德立領軍,核心技術雖源自歐美,經過團隊十餘年整合與自主研發,取得重大突破,並同時於竹科設立研發中心、台南建置生產基地,強化研發與製造一體化布局。胡德立並身兼駿吉控股(1591)董座。
根據統計,全球半導體設備市場規模約1,240億美元,預計2030年將達1,779.7億美元,年複合增長率7.5%;其中,步進式曝光設備市場規模可望從2021年的182億美元,成長至2031年的450億美元,年增率9.5%,亞太市場為主要成長動能。
在新商業模式推動下,微影今年營收可望達1億元至1.5億元,並規劃明年第4季登錄興櫃。
胡德立指出,韓國與大陸在官方資金與本土品牌帶動下,已發展出曝光機、濺鍍機等核心製程設備,並躋身全球前十大設備商;台灣雖在全球晶圓代工領域取得關鍵位置,但核心設備多依賴代理進口,國產廠商僅能聚焦於非製程周邊設備,難以切入製程核心。
為突破困境,駿吉控股採取「晶片導入設備」策略,透過自有DDR記憶體晶片外包,帶動封裝廠採用集團的晶圓切割、貼片、測試設備,形成一條龍供應鏈;未來結合台廠濺鍍機、蝕刻機與微影的曝光機,構建自主設備聯盟,從製程、製造到封裝建立完整在地產業鏈,減少對歐美日設備商的依賴。
微影並同步研發濺鍍機與蝕刻機,年底駿吉啟動DDR5晶片製程後,曝光機業務可望同步受惠,進一步推升營收與獲利表現。
微影半導體引領本土半導體技術革新,創新曝光機優化製程
在半導體技術主導當今科技發展的時代,光學曝光系統作為製程的核心技術,面臨著提高精度和能源效率的挑戰。台灣企業微影半導體以其創新的LED光源投影曝光機,為半導體設備本土化開啟了新篇章。
打破壟斷,提升本土供應能力
半導體產業關鍵的高階光學曝光系統一直由國際巨頭艾司摩爾(ASML)主導。微影半導體作為台灣首家提供光學曝光系統解決方案的公司,打破了這一壟斷局面。隨著半導體製程國產化的推進,微影的領先布局將使台灣廠商受益匪淺,為本土半導體產業注入競爭力。
革新傳統,節能環保高效
傳統的光學微影系統存在耗電高、毒性強、熱膨脹等缺陷。微影半導體採用低耗能、無毒的LED光源,克服了這些問題,大幅提升了製程穩定性和環保性。其核心技術源自歐美,經過整合與自主研發,成為全球首家成功採用LED光源及投影鏡頭的企業。
AI驅動,優化製程
微影的技術平台採用AI洞察平台和自動化多波長LED模型,徹底改變了半導體黃光生產平台。創新的整合解決方案使晶片製程更加簡單高效,更具環保性。其低碳設備製造技術和AI集群工具,讓客戶只需簡單操作,即可完成曝光過程,並自動蒐集數據以建立大型語言模型(LLM),優化製程。
領先布局,展望未來
目前,微影已在南科園區與客戶進行樣機測試,並計畫3年內完成募資,2027年掛牌興櫃。其產品涵蓋曝光機、塗佈顯影機及檢測機,能夠為黃光段製程提供完整的解決方案。展望未來,微影將繼續突破LED光源技術,完善技術平台,並拓展國際市場影響力,引領全球半導體製造的低碳革命。
光學曝光系統是半導體產業關鍵技術,這類高階設備一直由國際巨頭艾司摩爾(ASML)主導,台積電在全球領先的主要原因之一,便是擁有ASML的極紫外光(EUV)技術,台灣在此領域的供應能力相對薄弱。微影半導體作為台灣首家能提供光學曝光系統解決方案的公司,成功打破壟斷局面,隨著半導體製程國產化的推進,微影的領先布局將使台灣廠商在未來大幅受益,為本土半導體產業注入強勁競爭力。
目前,半導體產業廣泛使用的光學微影系統涵蓋從早期的汞光源系統到現今的雷射系統(DUV),汞光源系統適用於線寬較寬的應用,常見於印刷電路板(PCB)或成熟製程,但能量效率低、耗電量大,並具有高毒性,對環境與人體健康構成威脅,還存在熱能產生過多,導致曝光機鏡頭出現熱漲冷縮,進而影響製程穩定性。
微影半導體董事長胡德立表示,微影核心技術源自歐美,經過整合與自主研發,成為全球首家成功採用LED光源及投影鏡頭的企業,其步進式微米級投影曝光機具有節能、環保及高性價比特點,為半導體製程帶來革命性變革。微影透過低耗能、無毒性的LED光源,不僅克服汞光源系統的諸多缺陷,也大幅提升製程穩定性和環保性。
微影的技術平台具備自動化多波長LED模型及AI洞察平台,能夠徹底改變半導體黃光生產平台,創新的整合解決方案使晶片製程更加簡單高效,更具環保性。微影的低碳設備製造技術及AI集群工具,讓客戶只需簡單操作,即可完成曝光過程,並自動搜集數據以建立大型語言模型(LLM),從而輕鬆優化製程。這一技術平台能適配多樣化的晶圓廠流程,目標是實現以AI投影步進曝光為核心的LED無毒低碳節能黃光生產平台。
目前,微影已在南科園區與客戶進行樣機測試,並計畫3年內完成募資,2027年掛牌興櫃,產品涵蓋曝光機、塗佈顯影機及檢測機,能夠為黃光段製程提供完整的解決方案。展望未來,微影將繼續推動LED光源技術的創新,不斷完善技術平台,並擴大在國際市場的影響力,引領全球半導體製造的低碳革命。
微影半導體進駐南科,提升半導體設備國產化
國家科學及技術委員會日前通過核准微影半導體和中勤實業於南部科學園區(南科)設立投資案,顯示政府持續支持半導體產業發展。
微影半導體投資臺南園區
微影半導體將於臺南園區投資設立,主要從事半導體曝光機、塗佈顯影機及檢測設備的研發與生產。其採用的LED光源和投影鏡頭技術,可實現0.35微米曝光精度和1:10高焦深,具有節能環保和高性價比等優勢。微影半導體進駐南科後,預計將促進國內半導體設備產業的國產化發展。
中勤實業投資高雄園區
中勤實業則將於高雄園區設立分公司,專注於半導體及光電產業晶圓載具、電子及其他高科技產業用載具、晶圓載具智能傳輸設備及晶圓載具清洗循環服務的研發與生產。公司將擴大載具高分子塑膠材料和智能傳輸設備的研發,並運用高效塑膠材料和生質油萃取技術,提供創新且友善環境的高潔淨材料載具。
中勤實業進駐南科後,預計將有助於國內半導體材料與設備在地化,並強化南科半導體產業聚落,提升臺灣在全球半導體產業的關鍵地位。
南科持續引進投資
截至今年8月20日,南科管理局轄下六個園區已引進11家廠商,累計投資金額約新臺幣235億元。目前有效核准廠商家數為276家,顯示南科持續吸引投資,成為國內半導體產業發展的重要基地。
該管理局表示,微影半導體申請於臺南園區投資設立,主要研發生 產半導體曝光機、塗佈顯影機及檢測設備;微影半導體採用LED光源 及投影鏡頭,可達成0.35微米曝光精度,1:10高焦深,且有節能環 保及高性價比等特色,未來進駐臺南園區後,有助於未來國內半導體 設備產業國產化之發展。
中勤實業申請於高雄園區投資設立分公司,研發生產半導體及光電 產業晶圓用載具、電子及其他高科技產業用載具、晶圓載具智能傳輸 設備及晶圓載具清洗循環服務,進駐高雄園區後,將擴大載具高分子 塑膠材料與智能傳輸設備之研發量能,以高效塑膠材料及生質油萃取 相關技術,提供創新及友善環境之高潔淨材料載具,帶動臺灣綠色循 環經濟發展及產業創新轉型,未來進駐高雄園區後,有助於國內半導 體材料與設備在地化,同時強化南科半導體產業聚落,並提升臺灣全 球關鍵地位。