南茂、力成搶進DDR-II封測市場 2003/08/20 來源:工商時報 看好明年DDR-II將成為新一世代DRAM市場主流,且DDR-II在後段封裝測試製程亦將出現技術世代交替現象,因此專注在DRAM後段封測市場的南茂集團與力成科技,昨(十九)日分別宣布進軍DDR-II封測市場策略,其中南茂宣佈採用印刷式B階環氧樹脂的細間距閘球陣列封裝(FBGA)已研發成功並可量產,力成則表示第四季可完成微窗閘球陣列封裝(wBGA)產能建置。 上一則: 南茂集團營運 放晴 下一則: 南茂推出DDRⅡ後段封測 預定明年初上市