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半導體5奈米製程進入量產，大廠也啟動3與2奈米製程研發，未來朝1奈米以下推進並非不可能。半導體先進製程考驗廠商的技術實力，美中貿易戰也將其推升至戰略武器層級。汎銓科技董事長柳紀綸表示，當尺寸進一步微縮，材料分析（MA）在先進製程研發更加重要；汎銓在該領域領先全球，精準快速的分析，在半導體及產業高階製程研發扮演領航者角色。

副總經理周學良表示，小於7奈米製程時，材料分析的挑戰在於樣品製備。以超低介電材料（Low K）與7+奈米製程導入的EUV光阻為例，受限於材料天性，以電子顯微鏡觀察微結構與成分時，容易因電子束照射導致樣品變形、倒塌，造成研發人員誤判。汎銓數年前即開發原子層沉積技術（ALD），可以解決此一問題。

周學良表示，汎銓投入環繞閘極（GAA）架構分析工法研發，與多家客戶合作，材料分析品質深獲肯定。

營運長廖永順表示，邏輯Si先進製程努力延續摩爾定律，由於5G概念興起與車用電子強勁需求，使摩爾定律演進過程中未開發的部分（More than Moore）也受到關注與重視，GaN與SiC等第三類半導體，最受注目。

研發這些元件的製程過程需要材料分析，二次離子質譜儀（SIMS）分析也至關重要，著眼於此趨勢， 今年第3季汎銓引進SIMS分析，結合原有MA技術，提供高精準空間與濃度解析服務。廖永順說，為符合物聯網低功耗需求，晶圓廠積極開發新型記憶體，除了DRAM、SRAM、SSD、NAND及NOR Flash外，MRAM、ReRAM、PCM及3D Xpoint等新產品也方興未艾，MRAM具有低耗能與非揮發性，因為多層且由數奈米厚度的不同材料堆疊，蝕刻後的材料分析相當關鍵，以汎銓的高品質TEM影像與元素分析，可加速研發時程。

摩爾定律在先進製程已接近物理極限，藉由創新的封裝技術（如Integrated Fan-Out）與2.5D和3D異質結合封裝，能使廣義的摩爾定律得以延續。汎銓以充沛的分析能量，持續培育專業人才，深化技術實力，提供FA、MA到SA一站式分析服務，持續添購高端分析設備，研發先進製程分析工法，成為國際一線大廠最佳的研發夥伴。(翁永全)

汎銓科技專研半導體材料分析，以優勢技術擴展更多業務及客戶，持續拉開領先對手的差距。董事長柳紀綸表示，今年下半年為汎銓邁向新發展的重要轉折點，9╱18半導體展I區2228號攤位，將展示領先全球的技術實力。

過去表面分析（SIMS╱XPS）國外大廠具有優勢並形成市場寡占，柳紀綸強調，汎銓的服務不斷升級，今年新增表面分析的設備，在製程摻雜離子（電性參數）及汙染物監控更精準快速，並強化故障分析能量，補足先進封裝分析設備（X-ray、SAT、Thermal Emission），強化電性分析設備定位的精準度及故障分析hit rate，更容易找到異常的真因。

半導體製程不斷創新，大廠投入5nm及3nm先進製程研發，EUV光阻、Low-K等關鍵材料由於材料特性，以電子顯微鏡技術觀察材料的微結構與成分時，容易導致材料產生人為缺陷，至變形、倒塌，導致研發人員誤判，走錯研發方向。汎銓研發領先同業的技術工法，避免人為因素導致缺陷，樣品得以維持原貌，為進行每一代製程微縮研發過程中不可或缺。

汎銓自行研發ALD真空鍍膜技術，更是業界唯一可以讓樣品形成盔甲保護，避免人為缺陷，呈現真實的材料微結構與成分，已廣泛應用於FA╱MA多項分析，展現絕對優勢。因應需求擴大，持續在新竹、台南及南京擴充ALD真空鍍膜設備產能。南京營運據點今年6月開幕，採取相當於中央廚房的管控精神，使各外站的品質及服務與總部一致，有利於開拓更多海外分析業務。

柳紀綸認為，汎銓在半導體先進製程的材料分析領先同業，有很多原因，包括管理制度健全，歷年培養許多優秀工程人員，單位時間具有最優品質及最大產量。除了先進設備陣容盛大，亦有優秀設備團隊來維護；研發及工程客服人員具有高度服務熱忱，樂於接受挑戰，視客戶的高規格品質要求為進步的來源。

汎銓自行研發智慧e系統，用於案件排程管理，也發揮人工智慧的優勢，大幅提升運作效率、縮短交期，提升承接大量、高難度案件的能力。「委案量越多越難，人員、機台及生產系統就越優化，進一步提升競爭力。」

汎銓科技研發團隊不斷精進分析技術，擁有領先業界的半導體材料分析技術能力，並在TEM、FIB及SEM等材料分析服務，發展出專屬的特殊工法。

繼用於最先進製程的極紫外光光阻（EUV PR）及超低介電材料（low-k）材料分析技術後，汎銓第三季設備陣容再升級，新增二次離子質譜儀 （SIMS），為SA表面分析的利器，偵測靈敏度達到ppb等級，能分析輕元素，亦能分辨同位素，用來建構三維的結構與成分。

汎銓的 TEM擁有1~2 A的最佳空間解析能力，附加的成分分析分析工具EDS╱EELS，偵測極限約1000ppm，低於此偵測極限低濃度，則藉由SIMS分析工具來偵測製程的摻雜離子或污染物，偵測極限可達ppb水準。SIMS主要用於檢測半導體擴散製程中，參雜離子的濃度及深度，以瞭解離子分佈對元件電性的影響。在RD simulation 驗證、implanter機台，以及製程監控與故障分析，都需要此分析工具。

市場肯定汎銓過去在MA分析的精確度及穩定度具有超水準表現，對於再提供SIMS服務抱持很高的期待。基於「結合精準的空間解析及濃度解析，畢其功於一役」的想法，汎銓今年新增多部設備，待近期完成分析驗證後，將正式展開業務，半導體、LED、III-IV族等光電產業大廠，在製程摻雜離子（電性參數）及污染物的監控，可獲得精準快速且高品質的分析服務。

汎銓也會投入研發能量，針對SIMS分析技術的新製程試片與特殊需求，研發新工法，解決客戶在表面分析的各種難題，在先進製程研發路上順利推進。

汎銓科技（MSS）又有新的設備投資，此次引進法國CAMECA公司的SIMS先進二次離子質譜儀，為材料表面分析（SA）的利器，可透過濺射、蝕刻技術，精準分析半導體板材中的各種元素成分，對於半導體及光電業發展次世代製程採用新材料，提供有力奧援。

汎銓董事長柳紀綸表示，驗證分析產業MA、FA、SA、RA，其中可靠度分析（RA）以產品驗證為主，市場量雖大，但技術門檻不及材料分析（MA）及故障分析（FA）。汎銓專攻半導體先進製程的MA及FA，分析技術能力可對應5奈米以下製程，加入材料表面分析（SA）服務，戰力更為提升，將進一步帶動營收成長。

汎銓上半年完成增資，引進多家國內金控創投法人，以每股溢價53元，共發行1萬張。據了解，汎銓募集5.3億元，主要用於擴充產能，提升戰備，為近年資本市場少見的重量級增資案。副總經理蘇靖棋表示，除婉拒多家重量級創投及海外資金，也有半導體設備商有意入股，由於半導體市場的重量級設備商都是汎銓的客戶，基於角色中立考量，也只能說NO。

汎銓在新竹設立多處實驗室，提供高質量的MA、FA、SA服務，在南科及南京也有據點。南京廠明（18）日啟用，11月將新增位於新竹公道五路的辦公室及實驗室，一口氣租下3個樓層，與大客戶在晶圓先進製程大手筆豪氣投資，絲毫不遜色。（翁永全）

今個月（20日）開始，上海新國際博覽中心裡頭熱鬧非凡，因為一年一度的SEMICON CHINA 2019展覽盛大開幕啦！這次展覽有超過1,200家半導體相關業者參展，擺滿了超過4,000個攤位，其中台灣廠商就有近80家，預計會吸引超過50,000名專業人士來參觀，好不熱鬧！ 咱們國內的半導體產業在政府的大力支持下，這幾年來可是發展得有模有樣，成為了全球矚目的焦點。這次展覽的六大主題專區，從IC製造到LED、從集成電路材料到電力電子，應有盡有，還有專題演講和論壇，讓大家都能夠了解到最新的產業動態。 話說回來，智慧製造、物聯網、5G、AI、車聯網等等這些新興產業，對半導體產業的影響可大了，讓半導體製程和電路設計越來越精細，對先進封裝測試的品質要求也更高了。所以，台灣的廠商們都在往高端先進製程和客製化這個方向努力。 像是汎銓科技（MSS）這家公司，就專注在半導體先進製程的材料分析和故障分析上，技術能力強大到可以應對7奈米以下的製程，還能在保持光阻材料原貌的情況下，分析曝光缺陷和製程問題，幫助半導體廠改良製程，實在是厲害得很！ 其他台灣的知名廠商，像矽菱、亞亞科技、台灣矽科宏晟科技、鈺祥企業等等，也都帶來了最新技術和解决方案，讓人眼睛為之一亮。這次展覽真的是讓我們看到了台灣半導體產業的實力，也期待未來能夠有更多突破和發展！

【新聞報導】 汎銓科技（MSS）這間台灣半導體材料分析專家，在先進製程領域展現了驚人的技術實力。他們的技術能力可以應對7奈米以下的製程，這在當今的半導體產業中可是相當尖端的水平呢！ 上個月的SEMICON CHINA展會上，汎銓科技在Hall N5的攤位（5759號）吸引了許多業內人士前來交流，可見他們的影響力和專業度。 说到先進製程，不得不提的就是EUV微影技術，這是5奈米及3奈米製程發展的關鍵。但這技術的難度可不小，因為在曝光光阻時會產生很多物理性和化學性的變化，這些變化很容易導致缺陷。 汎銓科技卻有辦法透過TEM（傳統電子顯微鏡）進行形貌及成分分析，並且他們的樣品製備技術非常出色，能夠保持樣品原貌不變形，從而找出缺陷的真因。 更令人驚艷的是，汎銓科技開發了全球獨步的低損傷EUV光阻材料分析技術，這項技術能夠提供非常精準的數據，幫助客戶在先進製程研發競賽中保持領先。 不僅如此，汎銓科技在台灣新竹總部設有完善的實驗室，並且在南京浦口經濟開發區設立了子公司——南京泛銓電子科技，提供全面的半導體先進製程分析服務，服務對象涵蓋了大陸的晶片產業、積體電路、LED及光通訊產業。 自2005年7月成立以來，汎銓科技就在專業領域中領先群倫，南京廠區更是成為了他在大陸的營運總部。他們強調，大陸急需高端材料分析廠商，而汎銓科技提供的先進技術服務，正是為了大陸重點產業建立優質研發能量的有力後盾，同時也能夠培養更多優秀人才，幫助晶片廠縮短先進製程的時間。

SEMICON CHINA 2019今（20）日起至22日於上海新國際博覽中心登場，現場有超過1,200家半導體相關業者，逾4,000個攤位，台灣廠商也有近80家業者參展，預計吸引超過50,000名專業人士參觀。

半導體產業在中國大陸政策的強力推動下快速成長，成為兵家必爭之地。此次SEMICON CHINA共規畫六大主題專區：IC製造專區、LED及藍寶石專區、集成電路材料產業聯盟、電力電子專區、二手設備專區、SEMI中國英才計畫專區等。同時還舉辦專題演講與論壇，主題涵蓋先進製造、先進封裝、DRAM、綠色廠務、智慧製造、創新投資、電子系統設計、汽車電子、新興顯示等相關主題。今年的MSIG論壇將介紹MEMS感測器、AI晶片、5G、雲端和大數據以及人工智慧的應用場景和應用案例。

近年來包括智慧製造、物聯網、5G、AI、車聯網等產業浪潮席捲整個微電子產業鏈，半導體製程電路設計愈來愈精細，對於先進封裝測試的品質也更加要求，台灣業者紛紛往高端先進製程與客製化發展；另一方面，循環經濟的議題與應用也從台灣吹向中國大陸。

此次台灣參展業者，如矽菱提供完整封測材料產品線及服務據點；亞亞科技公司針對半導體封裝廠，推出「全自動隱崩檢查機」，可穿透切割後的藍膜及矽晶圓，直接從IC背後看到內層隱裂，進行有效的品質管控。

汎銓科技（MSS）專攻半導體先進製程的材料分析及故障分析，技術能力可對應7奈米以下製程，並能在保持光阻材料原貌情況下，分析曝光缺陷和製程問題，藉此幫助半導體廠改良製程。

台灣矽科宏晟科技則為兩岸主要晶圓及面板廠提供廠務工程中的化學系統供應系統（Chemical Dispense System，CDS），從設計施工到系統維運，提供完整服務。

兩岸化學濾網大廠鈺祥企業，近年推動循環經濟有成，提供半導體產業在化學濾網微汙染控制的解決方案，達到99%可以重複再利用，節省15%以上的耗材費用，降低10%以上的清運處理費用，並且成功外銷到國際記憶體大廠美國本廠。

其他台灣知名業者如中勤實業、永光化學、台灣港建、合晶科技、家登精密、帆宣系統、常鴻新、應用奈米、旺矽、源台精密、漢民科技、穎崴科技、竑勝科技、致茂電子等，展出最新半導體業的設備技術與各種解決方案。

汎銓科技（MSS）專攻半導體先進製程的材料分析及故障分析，技術能力可對應7奈米以下製程。2019 SEMICON CHINA，該公司位於Hall N5，5759的攤位，可望吸引大批業內人士互動交流。

EUV微影技術是5奈米及3奈米製程繼續發展的關鍵技術，但目前世界各國大廠都面臨極大的困難，主因是難以克服曝光光阻時產生的物理性及化學性變化引發的缺陷。EUV光阻缺陷可藉由TEM進行形貌及成分分析，而樣品製備難度極高，TEM樣品必須維持原貌不變形才能分析缺陷真因。汎銓科技已發展出一套檢測光阻缺陷的技術，能在保持光阻材料原貌情況下，分析曝光缺陷和製程問題，藉此幫助半導體廠改良製程。

汎銓科技開發獨步全球的低損傷EUV光阻材料分析技術，可提供最精準的數據，讓客戶在先進製程研發競賽中持續領先。除了新竹總部已設置完善的實驗室，配備全套分析設備；為支援客戶需求，子公司南京泛銓電子科技已在南京浦口經濟開發區正式落戶，提供各項半導體先進製程分析服務，包括：材料分析、故障分析及可靠度分析等，服務對象包括大陸的晶片產業、積體電路、LED及光通訊產業。

汎銓科技2005年7月成立，在專業領域獨領風騷，南京廠區為大陸營運總部。汎銓表示，大陸欠缺在地化的高端材料分析廠商，汎銓供應最先進的分析技術服務，為大陸重點產業建立優質研發能量的有力後盾，並可培育更多優秀人才，協助晶片廠縮短先進製程的時間。

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汎銓科技近年在材料分析領域有不俗的進展，副總周學良透露，公司不僅在人力和設備上建立了明顯的競爭優勢，還擁有一支訓練有素的工程團隊，能夠在單位時間內提供最大產量。這支優秀的團隊專注於維護最先進的機台，確保生產效率與品質。

周學良強調，客戶對高規格品質的要求是汎銓不斷進步的動力。公司的CE、RD部門樂意接受客戶的挑戰，並透過自研的智慧e系統在案件排程管理上發揮人工智能的優勢，大幅提升效率與競爭力。隨著案件難度不斷提升，汎銓在人力、機台和生產系統上進行優化，競爭力也隨之提升。

汎銓科技在產能、品質和交期方面擁有領先的競爭優勢，同時對資訊安全也極為重視。公司擁有全球獨步的生產資訊安全系統，機密保護達到「國安」等級。從設置資訊長職務到營運保全處（BOSD）的規畫，再到嚴格的資安流程執行，汎銓科技在資訊安全方面下足功夫，並獲得重要客戶的肯定。

副總經理蘇靖棋表示，過去兩年，公司感受到客戶需求的增長帶來的壓力，並且研發技術的進步讓公司信心倍增。為了加速擴充產能，汎銓科技搬遷FA部門，成立竹科及南科分公司，並在大陸市場建置上海及南京子公司。公司還積極徵才，建立公平、公開的激勵制度，鼓勵員工在平等的平台努力工作，並通過競賽來提升效率。

去年，汎銓科技逐步擴充機台和人員，技術精進、MO減少、智慧e系統發揮人工智能優勢，為第4季的優異表現打下基礎。今年，公司建構兩岸四座實驗室，預計將持續增加實力，在技術、產能、品質及交期領先，創造更強大的競爭優勢。

汎銓科技副總周學良表示，汎銓的材料分析實力在2018年長足進步，在人力及設備均建立競爭優勢，有最多訓練有素的工程人員，單位時間提供最大產量，並有優秀團隊來維護最先進的機台。

汎銓表示，客戶的高規格品質要求為進步的來源，汎銓的CE、RD樂意服務並接受客戶的挑戰，自行研發的智慧e系統，在案件排程管理也發揮人工智慧的優勢，顯著增加效率及競爭力，有能力承接大量且高難度的委託案件；隨著案件越多越難，人員、機台及生產系統越加優化，競爭力更加提升。

除了產能、品質、交期領先的競爭優勢，汎銓也十分注重資訊安全，擁有獨步全球的生產資訊安全系統，機密保護達到「國安」等級。很早就設置資訊長職務及營運保全處（BOSD），規畫滴水不漏的資安流程，嚴格執行，任何人，包括客戶、員工，甚至汎銓董事長以下的一線主管，進出實驗室均需檢查背包物品，相機、筆電及手機鏡頭貼上保密貼，實驗室內多數區域列為嚴管禁地，只有被授權人員才能進出，嚴謹程度受到重要客戶肯定。

副總經理蘇靖棋表示，這兩年感受到客戶需求增加的壓力，且研發技術拉大領先，讓公司信心大振，決定以技術換利潤，加速擴充產能。除了搬遷FA部門，成立竹科及南科分公司，並擴展大陸市場，建置上海及南京子公司。同時積極徵才，建立公平、公開的激勵制度，員工在立足點平等的平台努力工作，增加收入，並鼓勵班別之間的競賽，達到自發性發揮效率。

汎銓去年逐步擴充機台及人員，加上技術精進、MO減少、智慧e系統發揮人工智慧的優勢，為第4季的優異表現打下基礎。今年建構兩岸四座實驗室後，可望持續增加實力，在技術、產能、品質及交期領先，創造更強大的競爭優勢。

在半導體產業研發新製程，汎銓科技扮演重要的角色。營運長廖永順表示，半導體界對摩爾定律（Moore's Law）耳熟能詳，台積電創辦人張忠謀預測2nm可望在2025年問世，讓汎銓對未來的材料分析市場充滿信心。

摩爾定律成功預示並推動電子計算設備不斷向前發展，1985年至今，MOS縮小成143分之一，IC效能提升讓通訊速度爆炸，5G以每秒1Gbit為建構目標，相比1985年時，速度增長100萬倍。以前傳送1張相片要20分鐘，現在一秒鐘可傳800張，偉大的進步造福了大眾，也讓很多未順應潮流的公司喪失競爭力。不少叱吒一時公司營運載浮載沉，投射出很多求職不易、中年失業、老年沉淪的就業問題。

高通則是依循摩爾定律發展的成功典範，1985年創業之初，當時是大學教授的厄文．雅各布推廣CDMA通訊協定，被同行認為不切實際，因為傳輸一張影像需好幾分鐘，然而他堅持申請完整的CDMA專利保護傘，因為他知道摩爾定律會幫助他實現夢想，後來果真證明他的真知卓見。

汎銓在半導體產業研發過程，扮演重要的協助角色，因應先進製程快速推進，透過多樣化、創新的材料分析技術，解決各種棘手的高難度案件。隨著更多半導體廠商投入新製程研發，汎銓受惠於不斷向前發展的定律，維持高度成長。

廖永順表示，除了因為摩爾定律而創造出的材料分析需求，還有more than moore的製程研發，運用除了邏輯元件以外的不同製程發展多樣性IC十分蓬勃，汎銓放眼全球市場，業務持續開發，厚植更大的成長動能。

封裝廠在more than moore的發展中也扮演極重要角色。摩爾定律發展到28nm後，IC因縮小而cost down的優勢趨緩，但以先進封裝達成更高IC聚集度變成優勢，Fan Out、Wafer Level CSP、SIP封裝等大量應用並大放光芒，海峽兩岸華人圈成為封裝領域的重鎮。汎銓在兩岸四個實驗室，有助於爭取封裝大廠合作，行銷業務處及研發處也針對全新的開關元件開發技術，建立絕對領先優勢，為beyond moore之後的分析要求作準備。

汎銓科技為IC半導體產業的權威醫生，不用聽診器，就能準確掌握IC的心跳節奏。汎銓投入材料分析及電路修補13年，董事長柳紀綸妙喻這行業為開醫院，汎銓擔任半導體產業看診除病的華陀，檢查的是比微血管還細微許多的線路及製程結構成分，精密程度超越細胞等級。

身體由細胞組建的複雜微血管網絡所構成，而一顆晶片內含數億個以上電晶體，電路密度之高，難以想像。人體奧妙的生化反應，即使一小部分微血管阻塞或病變，仍能運作如常，但在物理規則下運行的高密度積體電路，只要一個小地方出錯，整顆IC隨即當機，完全顯示IC的材料分析及電路修補具有高度嚴謹性，完全沒有模糊的空間。

做為業界優等生，汎銓10月底榮獲2018國家磐石獎，11月初舉行的慶祝茶會，國內八大行庫及國內外13家大型創投法人的高階主管齊出席慶賀，汎銓的客戶清一色是半導體、光電科技大廠，全球晶圓代工大廠等長期合作夥伴，何以眾多重量級金融業人士不約而同致賀，從董事長柳紀綸親口說出「汎銓將朝向IPO上市櫃前進」得到答案。

半導體產業材料分析及IC電路修補是硬碰硬的工作，以真刀真槍、拚的是真本事；汎銓近年營運一再攻頂，在法人看來，是未來資本市場極閃耀的一顆明珠。

有台灣中小企業界奧斯卡獎之稱的「國家磐石獎」得獎名單出爐，選出10家優秀企業得主，「第20屆海外台商磐石獎」也有7家企業獲獎，昨（31）日在台北君悅酒店凱悅廳舉行頒獎典禮，超過600位嘉賓參與，分享喜悅與榮耀。

為選拔穩健殷實且對社會有具體貢獻的中小企業，經濟部自民國81年起舉辦「國家磐石獎」，累計選拔出191家經營表現傑出的中小企業；並於民國88年與僑委會共同舉辦「海外台商磐石獎」，迄今已有117家優秀海外台商獲獎。

經濟部中小企業處處長吳明機表示，今年度「國家磐石獎」得獎企業的經營領域產業領域包含半導體材料分析、生技醫療、化學製品、機械設備、食品製造、工業電腦等，其中不乏握有關鍵技術而成為全球市場領導地位的傑出企業。特別值得一提的是，今年得?企業以自有品牌行銷者高達80%以上，相信在這些卓越企業的帶領下，能促使台灣企業的國際競爭力向上推升，帶動整體經濟持續成長。

今年度10家「國家磐石獎」得獎企業，分別為汎銓科技、怡業、皇華企業、晉弘科技、高慶泉、勤凱科技、漢台科技、碩陽電機、維田科技、豐盟企業。7家「海外台商磐石獎」獲獎企業為RiskVal Financial Solutions, LLC、全利實業、和泰電子、和鼎隆建築、東昌電機、凱勝1家具（越南）、錦紅投資。（徐谷楨）

經濟部頒布第27屆「國家磐石獎」，汎銓科技名列其中，董事長柳紀綸親自領獎；典禮昨（31）日在台北君悅飯店隆重舉行，由副總統陳建仁親自頒獎。

國家磐石獎素有企業界「奧斯卡獎」美譽，中小企業視為最高榮譽，審查作業針對整體管理制度、創新策略、行銷策略、人力發展、社會責任及財務狀況等面向，經產官學各領域專家3度綜合評鑑。汎銓從眾多送審企業中脫穎而出，顯示企業經營與體質受到全面肯定。在半導體的總體經濟重要性顯著提升，且政府投以更高關注度之際，更凸顯此次獲獎意義非凡。

汎銓科技是半導體業的隱形冠軍，專攻材料分析（Material Analysis；MA）及故障分析（Failure Analysis；FA），隨著製程微縮，難度及挑戰也更大。汎銓因應挑戰，投入巨大研發能量，持續引進最先端儀器設備，在投入先進製程技術研發及提升服務技術層次，均走在市場之先。

「克服先進製程分析技術的挑戰，保持技術領先及正確的資料判讀能力，並能縮短交期、贏得客戶的信賴與滿意」，為榮獲2018國家磐石獎大大加分。

汎銓新竹營運總部實驗室配備高解析度SEM（掃描式電子顯微鏡）、FIB（聚焦式離子束顯微鏡）、TEM（穿透式電子顯微鏡）等材料結構分析儀器，以及OBIRCH（雷射光束電阻異常偵測）、InGaAs（砷化鎵銦微光顯微鏡）等電性故障分析儀器及IC電路修補儀器等全套先進分析設備，10月17日南科分公司開幕，南京實驗室也將在明年初接續啟用，以在地化服務滿足半導體晶圓製造廠、LED光電廠、IC設計公司及傳統產業在產品、元件的材料與故障分析需求。

電子產品短小輕薄，朝微小化發展、要達到高速、大容量的性能要求，促使半導體製程朝更細微的奈米持續探索，高階製程技術也帶動材料分析服務的商機。

汎銓科技全面擴展業務，提高市占，拉大領先差距。

汎銓科技創業13年，其間的變化極大。成員由初期不到10人，增至近250人，營收更以三級跳高速成長。同時期的市場變化也不小，10年前，180及130奈米製程當道，目前7奈米以下為主流。汎銓在每個技術世代都跟上腳步，技術實力同步提升，適時導入先進設備，在客戶信任倚重下，獲得源源不斷的成長動力。

汎銓董事長柳紀綸早年在科學園區IC設計公司任職，2005年踏上創業之路，對於品味、品人、品事有深刻的體會，但堅持「只品不評」。他說，每個階段及歷程，不管順境或逆境，遇到的人及事都是學習品味的機會；他感性地表示，靜心看、用心想，品味各種處事的態度、成就的差異，並且努力將用心品味過的人事物吸收內化，終將化為自我成長的動力。

柳紀綸認為，態度決定高度，只有「到位」，才能「到味」。因此期盼年輕人不要只求眼前的小確幸，應追求長久的幸福；就業初期不要急於爭取權益，勿以福利決定付出的程度。他提醒員工，應該自省能貢獻多少，優先於爭取好待遇；並且強調，強化自身能力、往前衝，大可放心在汎銓發展。

此外，身為汎銓大家庭成員，要發揮自身影響力，建立在團隊的重要性，以及培養團隊合作能力。並以「最好成為轉軸，如果不能，就當螺絲，再不成，至少成為潤滑劑，都能成為團隊不可或缺的一部分」為喻做為訓勉。

汎銓科技2005年7月成立，細數歷來重要事蹟，2011年率先引進雙束型聚焦式離子束顯微鏡機台Helios 450S（Dual Beam FIB Helios 450S），提供高效率高解析影像，2013年引進高階電路修補機台V400ACE（FEI V400ACE）提供先進製程電路修補服務，2014年引進高解析掃描式電子顯微鏡機台（UHR SEM），藉此開發不同的技術工法，提供客戶專業分析服務項目。

2017年，汎銓新創「TEM（Si定點）X-S試片製備EUV光阻材料分析」、「TEM（Si定點）X-S試片製備EUV-10nm超薄試片」、「TEM（Si定點）X-S試片製備EUV-5nm超薄試片」等新的分析技術品項，滿足客戶高品質及高效率需求。2018年1月30日及6月11日，竹科及南科分公司相繼核准設立。

汎銓重視人才養成，在利潤共享的信念下，逐年擴大營運規模。

企業LOGO為具有特殊意涵的奈米碳管結構，董事長柳紀綸希望，公司成員如同奈米碳管中的碳原子般緊密結合、強韌延展，持續強化專業及熱忱特質，扮演好「客戶最佳的研發夥伴」。汎銓秉持MA、FA領導者的信念，傳承專業技術經驗、重視員工福利、研發先進製程技術工法，完善客戶服務。

材料的成分、特性與結構雖為微觀尺寸，卻主宰著巨觀世界的物質特性。電子元件的微小破裂或材料改變，都可能導致元件失效，在開發新技術或失效分析領域，材料分析具有很高的重要性。至於故障分析，包含以電性量測儀器對產品進行量測分析，找到故障點後則進行標記，之後可進行故障解析，平面式的逐層分析或採用橫截面分析，探索結構剖面。

在IC功能性驗證階段，汎銓當發現設計缺陷導致故障時，與客戶密切討論直接修改IC實體電路，以聚焦式離子束顯微鏡（FIB）對線路做切斷及重新連結；藉此準確找到問題點，確認新植入設計的有效性，讓IC設計公司節省光罩成本，加速產品上市。

汎銓以材料分析為核心，細分為材料及故障分析服務，客戶對象包括：晶圓製造、半導體設備、封測及設備、LED光電產業及面板大廠均維持密切長期的合作關係。

柳紀綸強調，汎銓堅強的工程研發團隊、領先同業引進高階先進設備、極低的員工流動率、e化智慧生產排程系統，及精益求精的分析技術，這些核心競爭力彼此環環相扣，造就汎銓科技穩居領先位置。

半導體材料分析（MA/FA）專業廠汎銓科技，完成擴大新竹營運總部的設備規模後，17日舉行南科分公司開幕，董事長柳紀綸、營運長廖永順、技術長陳榮欽、副總經理周學良等一級主管均出席。在以台積電為首的南科半導體聚落，汎銓落腳南科相當重要，親至開幕會場祝賀的管理局多位主管，表達對這宗招商引資案的高度重視。

汎銓今年4月獲准進駐南科，不到半年便完成分公司設立，初期斥資2億元以上，採購最新型的雙束型聚焦離子束顯微鏡（Dual Beam FIB）和穿透式電子顯微鏡（TEM），以先進製程材料分析就近服務南科大廠。

14年前，柳紀綸、廖永順極力爭取技術長陳榮欽加入經營團隊共同創立汎銓科技，為科技業三顧茅蘆的佳話。當時半導體技術才在28奈米階段，汎銓看出材料分析技術的重要性及發展前景，積極研發先進的技術與服務，卡位產業供應鏈，如今成為半導體板塊的要角。

IC為產業之米，半導體業更被喻為國家強盛的命脈，突顯其重要性。汎銓因應先進製程快速推進，透過多樣化、創新的材料分析技術，協助客戶解決各種棘手的高難度案件，成為業界翹楚。著眼於台灣半導體產業蓬勃興盛，中國大陸也傾全力發展，帶來無限商機。接著將啟動上海及南京子公司，以完整的兩岸布局，全面擴展市場。

智慧裝置、3C電子日趨普及，功能和效能也更為精進，加上AI、車用電子及互聯網興起，席捲全球高科技產業，均為半導體產業帶來新商機。過去汎銓新竹營運總部受限於產能追不上訂單，經常被迫婉拒部分訂單，如今南科營運據點擴充、產能陸續開出，自高階到中低階可提供全面分析服務，大幅拉升市占率及營業規模。

法人表示，從汎銓在經營上多面向的擴張發展觀察，可看出這家半導體界的隱形冠軍企業，將逐漸一改過去的低調，轉為檯面上光芒四射、散發耀眼熱力的新星。

汎銓稱霸業界 5奈米TEM試片製備能力

微縮技術不斷演進，TEM試片製備厚度是TEM分析能力的重要指標，汎銓的超薄5奈米TEM試片製備能力，居同業之冠。

技術長陳榮欽博士表示，材料分析產業只要有錢、願意投資，引入先進儀器並不難，但單憑設備並無法建立絕對的競爭力；他強調，好的分析設備須配合優異的試片製備技術以及精準的資料判讀能力，這是分析品質的關鍵。

以如何使低介電材料（Low-k），不因電子束的照射導致縮小、變形為例，一般分析業者不外乎減少電子束照射能量與提升樣品強度兩樣方式，而汎銓研發團隊擁有獨步全球的技術，製備低介質材料樣品的收縮比例達到業界最好；此外，較軟的材質「光阻」也是業界在分析上相當棘手的材料，特別在最先進的半導體技術上。半導體製程進到7奈米之後，極紫外光（EUV）光刻微影是關鍵技術，但曝光光阻可能產生的缺陷是需要克服的問題，汎銓領先世界發展的檢測光阻缺陷技術，能在不損傷光阻材料情況下製備出完整樣品，以便於分析曝光缺陷和製程問題，協助半導體廠改良製程。

有鑑於全球積極發展半導體技術，大廠間的角力競爭與窺探，輕則影響到公司的興衰，重則可能動搖國本。柳紀綸表示，對半導體設計、製造商而言，晶片布局（layout）、使用材料等數據為製程命脈，需要長期留存，絕對不能外洩。汎銓認為，工程技術能力超群固然重要，資訊安全更是重要的環節。

為妥善保全客戶的資料，汎銓特別增設資訊長職務以及營運保全處（BOSD），並規畫滴水不漏的資安流程，嚴格執行，獲得重要客戶認同。汎銓實驗室無論客戶或員工，甚至汎銓董事長、總經理及副總等一線主管，進出實驗室均需檢查背包物品，相機、筆電及手機鏡頭貼上保密貼。實驗室內多數區域列為嚴管禁地，只有被授權人員才能進出。

先進製程材料分析對半導體產業至關重要，從設計、製造到品管無一不相關。材料分析也是半導體產業中相當特殊的行業；作為業界協力廠商，汎銓在產品開發階段，協助客戶研發單位縮短新產品的開發時間；在生產階段，協助排除各種疑難雜症；產品出貨後，協助品保部門快速查明失效原因。

材料分析首重技術及品質，在分秒必爭的業界，速度也是決勝點，客戶高度在意，也是選擇合作夥伴的重要考量。在董事長柳紀綸心中，南科分公司為多年前擬訂的發展大計，也是為了落實貼近客戶、及時滿足需要的服務精神。汎銓半年後也將成立南京實驗室，兩地的材料分析都由擁有3-5年以上資歷的資深工程師擔任，專業程度能保證與客戶的案件溝通無虞，維持高產出能力。

汎銓的投資布局依循群聚效應來規畫，緊抓住產業發展軌跡。新竹及南科如此，中國大陸也是如此。回顧1997年，台積電第二座南科廠動工、2004年量產，接著5奈米及3奈米廠也都坐落於南科，吸引眾多周邊產業在地發展。南科也是LED產業重鎮，從南科往南至大高雄地區，原料設備商、LED廠、晶圓代工及封裝廠等都重金大舉設廠，形成高科技產業群落。

從營收比例來看，龍頭廠台積電是汎銓的重量級客戶，但非唯一客戶；汎銓表示，依多年經驗，不僅高科技產業需要材料分析服務，傳統產業在精進轉型時，積極尋求不同材料及協同學術界挑戰極限研究，「只要有新材料的變化，就需要汎銓的協助與服務。」

汎銓這二年突飛猛進的關鍵，以人為本的企業文化也是不可忽略的因素。汎銓視員工為合作夥伴，14年來，種種善待同仁的福利政策，吸引各方人才慕名而來；極低的離職率也使艱辛研發的各種分析技術得以保留傳承、持續精進。

汎銓科技因應半導體先進製程快速推進的材料分析需求，加快兩岸布局。大規模擴充新竹埔頂路營運總部的設備陣容，並成立竹科分公司，擴大FA故障分析服務業務，4月也獲准進駐南科設立分公司，以先進製程材料分析服務，就近服務南科大廠。

中國半導體市場蓬勃發展，汎銓繼上海據點後，今年成立子公司南京泛銓電子，距台積電南京廠僅1.5公里，達到服務「零時差」。董事長柳紀綸表示，營運總部過去受限於產能追不上訂單，經常被迫婉拒部分訂單；如今營運據點擴充、產能陸續開出，自高階到中低階可提供全面分析服務，大幅拉升市占率及營業規模。

汎銓以材料分析專業技術服務半導體上游的製程研發，協助客戶突破新的技術障礙。2018年即整合相關成熟的分析工法，以「TEM（Si定點）X-S試片製備EUV光阻材料分析」、「TEM（Si定點）X-S試片製備EUV-10nm超薄試片」、「TEM（Si定點）X-S試片製備EUV-5nm超薄試片」等新的分析技術品項，滿足客戶對品質及效率的需求。

技術長陳榮欽博士表示，汎銓持續引進先端設備及研發技術，故能在半導體材料分析技術領先同業。他強調，材料分析業只要願意投資，引入先進儀器並不難，但單憑設備無法建立絕對的競爭力；汎銓接受客戶挑戰、主動研發分析技術，開發一系列試片製備技術及觀測手法，擁有正確的資料判讀能力，為汎銓分析品質一路領先的關鍵；此外，也使機台發揮高於預期的效率，產出的質與量皆高於同業。

汎銓解決許多棘手的高難度案件，更與客戶激盪出創新的材料分析技術，開啟多樣化的材料分析里程碑。在半導體先進製程的材料分析領域，汎銓持續投入從奈米科技邁入A°（Angstrom）科技的材料分析工法的研發，走在最先進製程材料分析技術的前端。2018台灣半導體展覽會，展出最新的材料分析技術（攤位1樓2426），歡迎至現場交流。