汎銓科技公司新聞 | IPO贏家未上市股票交流網

汎銓科技

報價日期:2026/01/30
買價(賣方參考)
議價
賣價(買方參考)
議價

汎銓科技 (上) 公司新聞

汎銓科技獲利亮麗,2.627元配息準備上櫃
2021年7月2日
【半導體檢測分析大廠汎銓科技發展亮麗,股東常會決議配發現金股利】   在這個科技發展日新月異的時代,半導體檢測分析領域的佼佼者——汎銓科技(6830),近期舉辦了股東常會,會中決議通過每股配發2.…
汎銓決配息2.627元 將申請上市櫃
2021年7月2日
半導體檢測分析廠汎銓(6830)1日舉辦股東常會,會中決議通過 每普通股配發2.627元現金股利,同時通過申請股票上市櫃案及完成 董事全面改選。汎銓董事長柳紀綸指出,對2021年整體營運成長深具 信…
汎銓嚴謹抗疫 營收逆勢揚升
2021年6月21日
近期國內疫情升溫,企業面臨嚴峻的挑戰。汎銓科技營運不受影響,目前營運較去年同期成長逾三成。企業主、大老闆們紛紛公開喊話,對員工打氣,也提出企業的抗疫戰略。汎銓董事長柳紀綸認為,新冠疫情百年難遇,但不…
汎銓科技:接單熱潮中,业绩强劲攀升
2021年5月18日
台灣半導體材料分析領域的領先廠商汎銓科技(6830)近期表示,在材料分析(MA)和故障分析(FA)兩大業務線上,公司接單情況相當熱絡,預計今年營運將持續成長。這主要得益于半導體大廠對先進製程,如5奈…
汎銓接單熱 業績動能強
2021年5月18日
半導體材料分析廠商汎銓(6830)昨(17)日表示,在材料分析(MA)、故障分析(FA)兩大業務保持良好的接單動能下,公司看好今年營運成長動能。汎銓受惠於半導體大廠朝向5奈米、3奈米、2奈米等先進製…
汎銓科技上半年成功躍升興櫃市場
2021年3月12日
【新聞稿內容】 半導體材料分析領域再添新兵!上市櫃公司汎銓科技(6830)昨日成功進行公開發行,並計畫在今年上半年登錄興櫃。看好台灣晶圓代工龍頭的背書和資本市場的資金挹注,汎銓有望躍升為國內先進製程…
汎銓規劃上半年登興櫃
2021年3月12日
半導體材料分析上市櫃公司將再添新兵。半導體先進製程與第三代化合物半導體廠商汎銓(6830)昨(11)日順利公開發行,規劃今年上半年登錄興櫃。法人看好,藉由台灣晶圓代工龍頭的加持以及資本市場的挹注,汎…
汎銓科技論壇盛況,業界熱烈回響
2021年2月26日
台灣汎銓科技在2月初盛大舉辦了「先進分析技術論壇」,吸引了超過百位半導體業界菁英共襄盛舉,會議地點選在台元科技園區的宴會廳。由於疫情防範的考量,活動分為兩場進行,第二場則預計在農曆年後另行安排。儘管…
汎銓先進分析論壇 回響熱
2021年2月26日
汎銓科技2月初舉辦「先進分析技術論壇」,共有百位半導體業菁英參與,地點在台元科技園區宴會廳。基於防疫考量,臨時決定採取「分流措施」,降低群聚的風險,活動因此分為兩場,第二場預定農曆年後擇期舉行。即便…
汎銓科技:引领先鋒FIB電路修補技術全新啟航
2020年12月14日
台灣汎銓科技近期引進了新一代的FIB電路修補設備Centrios,並已正式對外提供服務。這款設備搭載了全新的Tomahawk WDR Ion Column與MultiChem Gas Deliver…
汎銓FIB電路修補設備 正式上線
2020年12月14日
汎銓科技近期引進最新一代,可以支援先進製程FIB電路修補設備Centrios,正式上線對外服務。Centrios有新設計的Tomahawk WDR Ion Column與MultiChem Gas …
汎銓科技獨步先鋒:ALD低溫真空鍍膜技術專利榮耀
2020年11月16日
台灣汎銓科技在半導體製程技術的發展上,扮演著不可或缺的角色。隨著半導體製程的微縮化,從2奈米到3奈米量產的邁進,對於先進製程的穩定推進,周邊技術的支持也越發重要。在這其中,ALD真空鍍膜技術成了焦點…
汎銓科技掌握ALD低溫真空鍍膜技術獨步專利先鋒
2020年11月16日
【科技新聞】 近年來,半導體製程技術的發展趨勢不斷前進,尤其是5G技術的崛起,對半導體製程提出了更高的要求。在這股趨勢中,一項重要的技術——ALD真空鍍膜技術,成為了市場關注的焦點。其中,汎銓科技在…
ALD低溫真空鍍膜技術 汎銓獲專利
2020年11月16日
半導體製程技術顛覆性的發展,是支援5G及未來科技應用的重要支柱,微縮化則是半導體不變的發展方向,晶圓大廠邁向2、3奈米量產也逐步實現,而支持先進製程穩定推進的重要周邊力量,也受到市場關注,用於半導體…
汎銓科技掌握ALD低溫真空鍍膜核心專利
2020年11月2日
【新聞稿】 台灣汎銓科技在半導體製程技術領域再次展現其領先地位,成功將ALD低溫真空鍍膜技術應用於材料分析,並正式取得相關專利。這項技術在7奈米以下製程的材料分析中發揮關鍵作用,有效預防樣品在電子束…
汎銓科技:ALD技術導向,精準提升分析效能
2020年11月2日
【科技新聞】 在半導體產業,ALD真空鍍膜技術的關鍵性不僅於EUV極紫外光對晶圓廠的重要性,更被業界喻為不可或缺的利器。台灣汎銓科技在這一領域展現了卓越的技術實力,其開發的ALD低溫真空鍍膜技術,不…
ALD低溫真空鍍膜技術 汎銓獲專利
2020年11月2日
半導體製程技術持續顛覆性的發展,成為支援5G及未來科技應用的重要支柱。目前市場已確認微縮化為半導體不變的定局,而晶圓大廠邁向2、3奈米量產也逐步實現,此時應該關注支持先進製程穩定推進的重要周邊力量。…
ALD設備及樣品製備工法 提升分析精準度
2020年11月2日
ALD真空鍍膜技術對於半導體材料分析的重要性,業界形容,等同於EUV極紫外光對於晶圓廠,不可或缺。汎銓科技在半導體材料分析(MA),技術領先業界,多年前開發、近期正式取得專利的ALD低溫真空鍍膜技術…
MA+FA+SA 汎銓服務全方位
2020年11月2日
柳紀綸表示,汎銓的策略很清楚「研發無邊界、設備投資無上限」。除TEM穿透式電子顯微鏡、FIB聚焦離子束設備、SEM掃描式電子顯微鏡、nano prober及SIMS先進二次離子質譜儀等先進設備,Th…
台元園區新力軸:汎銓科技強強聯手開創未來
2020年9月23日
台灣汎銓科技近兩年來不斷拚進,進行了一系列的擴張投資,這次的手筆更是創下成立15年以來的最大規模。董事長柳紀綸親自解釋,公司新在台元科技園區設立了一個百坪的實驗室,這是公司繼南科、南京廠及新竹營運總…
線上諮詢 / 行情評估 (專人回覆,提供參考報價)
張/單位
請完成驗證後再送出。
聲明:本站僅提供未上市股票資訊交流與價格諮詢服務,並非證券商,不經營證券經紀業務。所有交易均為私人間協議轉讓,投資人應自行審慎評估風險。